크립톤 가스, 양자 컴퓨팅의 새로운 핵심 요소로 부상

크립톤 가스가 양자 컴퓨팅 하드웨어를 더 쉽게 제조하려는 노력의 일환으로 잠재적인 새로운 성분으로 떠오르고 있습니다. 과제는 양자 마이크로칩을 위한 고품질 초전도 재료를 찾는 것뿐만 아니라, 상업적 규모에서 안정적이고 지속 가능하게 사용할 수 있는 나노 제조 공정을 개발하는 것이기도 합니다.

탄탈륨은 내식성이 뛰어나고 고품질 초전도 재료에 대한 요구를 충족할 수 있어 관심을 끄는 재료 중 하나입니다. 하지만 이를 사용하는 데는 제조상의 장애물이 있습니다. 기판에 탄탈륨을 증착하려면 일반적으로 400°C(또는 752°F) 이상의 온도가 필요하기 때문입니다.

이러한 온도는 현재 반도체 파운드리에서 사용되는 많은 도구들에 비해 너무 높습니다. 유망한 양자 칩 재료와 기존 생산 장비 간의 이러한 불일치는 상용화의 장벽이 되며, 이에 따라 저온 및 파운드리 호환 제조 방식이 양자 컴퓨팅 분야에서 점점 더 중요해지고 있습니다.